PART/1CVD (kemijsko taloženje parom) metoda: Na 900-2300℃, koristeći TaCl5 i CnHm kao izvore tantala i ugljika, H₂ kao reducirajuće atmosfere, Ar₂kao plin nosač, film za reakcijsko taloženje.Pripremljeni premaz je kompaktan, ujednačen i visoke čistoće.Međutim, postoje neki problemi...
Čitaj više