CVD TaC premaz

Uvod u CVD TaC premaz:

CVD TaC premaz je tehnologija koja koristi hemijsko taloženje pare za taloženje tantal karbida (TaC) premaza na površini podloge. Tantal karbid je keramički materijal visokih performansi sa odličnim mehaničkim i hemijskim svojstvima. CVD proces stvara uniforman TaC film na površini supstrata kroz reakciju plina.

Glavne karakteristike:

Odlična tvrdoća i otpornost na habanje: Tantal karbid ima izuzetno visoku tvrdoću, a CVD TaC premaz može značajno poboljšati otpornost podloge na habanje. To čini premaz idealnim za primjenu u okruženjima visokog habanja, kao što su alati za rezanje i kalupi.

Stabilnost na visokim temperaturama: TaC premazi štite kritične komponente peći i reaktora na temperaturama do 2200°C, pokazujući dobru stabilnost. Održava hemijsku i mehaničku stabilnost u ekstremnim temperaturnim uslovima, što ga čini pogodnim za obradu na visokim temperaturama i primenu u okruženjima sa visokim temperaturama.

Odlična hemijska stabilnost: Tantal karbid ima jaku otpornost na koroziju na većinu kiselina i alkalija, a CVD TaC premaz može efikasno spriječiti oštećenje podloge u korozivnim sredinama.

Visoka tačka topljenja: Tantal karbid ima visoku tačku topljenja (približno 3880°C), što omogućava da se CVD TaC premaz koristi u uslovima ekstremno visokih temperatura bez topljenja ili degradacije.

Odlična toplotna provodljivost: TaC premaz ima visoku toplotnu provodljivost, što pomaže u efikasnom rasipanju toplote u visokotemperaturnim procesima i sprečavanju lokalnog pregrijavanja.

Potencijalne aplikacije:

• Komponente epitaksijalnog CVD reaktora od galijum nitrida (GaN) i silicijum karbida uključujući nosače vafla, satelitske antene, tuševe, plafone i prijemnike

• Komponente za rast kristala silicijum karbida, galij nitrida i aluminijum nitrida (AlN), uključujući lonce, držače semena, prstenove i filtere

• Industrijske komponente uključujući otporne grijaće elemente, mlaznice za ubrizgavanje, maskirne prstenove i alate za lemljenje

Karakteristike aplikacije:

• Temperatura stabilna iznad 2000°C, što omogućava rad na ekstremnim temperaturama
• Otporan na vodonik (Hz), amonijak (NH3), monosilan (SiH4) i silicijum (Si), pruža zaštitu u teškim hemijskim okruženjima
• Njegova otpornost na termalni udar omogućava brže radne cikluse
• Grafit ima snažnu adheziju, osiguravajući dug vijek trajanja i bez raslojavanja premaza.
• Ultra-visoka čistoća za uklanjanje nepotrebnih nečistoća ili zagađivača
• Konformna pokrivenost premaza uskim dimenzionalnim tolerancijama

Tehničke specifikacije:

Priprema gustih prevlaka od tantal karbida CVD-om：

TAC premaz sa visokom kristalinom i odličnom uniformnošću:

CVD TAC COATING Technical Parameters_Semicera:

Gore navedene su tipične vrijednosti.