Semicera'sMOCVD3x2” Susceptor je ključna komponenta posebno dizajnirana za procese epitaksije u industriji poluprovodnika, posebno zaSi EpitaxyiSiC Epitaxyprocesi. TheMOCVD Susceptorosigurava ujednačenu distribuciju temperature tokom procesa epitaksije kroz optimiziranu toplinsku provodljivost, čime se poboljšava tačnost i kvalitet depozicije monokristalnog silicijuma (Monocrystalline Silicon).
Semicera je oduvijek bila fokusirana na pružanje kupaca visokokvalitetnim MOCVD 3x2” susceptorima. Napravljen od naprednih materijala, ovaj proizvod ne samo da ima odličnu otpornost na visoke temperature, već i ostaje stabilan u složenim hemijskim okruženjima. Dobro se ponaša u raznim uređajima za epitaksiju, posebno uBarrel Susceptoraplikacijama, a njegova pouzdanost i performanse su široko prepoznate.
Pružamo prilagođene MOCVD susceptore za različite zahtjeve procesa kako bismo maksimizirali efikasnost proizvodnje i smanjili gubitak materijala. Semicera MOCVD 3x2” Susceptor ne samo da produžava životni vijek opreme, već također pruža stabilniju podršku zaSi EpitaxyiSiC Epitaxyprocesi kroz precizan dizajn, osiguravajući konzistentnost kvaliteta epitaksijalnog sloja i visoku čistoću proizvoda.
Semicera je uvijek posvećena pružanju kupaca pouzdanim, izdržljivim i efikasnim komponentama epitaksijalne opreme. Bilo u laboratorijskim okruženjima ili u velikoj industrijskoj proizvodnji, MOCVD 3x2” Susceptor može ispuniti najstrože tehničke zahtjeve, pomažući kupcima da postignu veću kontrolu procesa i bolji učinak proizvoda.
✓Vrhunski kvalitet na tržištu Kine
✓Dobra usluga uvijek za vas, 7*24 sata
✓Kratak datum isporuke
✓Mali MOQ dobrodošli i prihvaćeni
✓Prilagođene usluge
