Sirovine koje se koriste u proizvodnji tonera obično uključuju grafit u pahuljicama, naftni koks i mikrokristalno kameno mastilo.Što je veća čistoća grafita, veća je upotrebna vrijednost.Metode pročišćavanja grafita mogu se podijeliti na fizičke metode i kemijske metode.Metode fizičkog prečišćavanja uključuju flotaciju i visokotemperaturno prečišćavanje, a hemijske metode prečišćavanja uključuju kiselinsko-baznu metodu, metodu fluorovodonične kiseline i metodu prženja hloridom.
Među njima, metoda prečišćavanja na visokim temperaturama može koristiti visoku tačku topljenja (3773K) i tačku ključanja grafita za postizanje 4N5 i veće čistoće, što uključuje isparavanje i emisiju nečistoća s niskom tačkom ključanja, kako bi se postigla svrha prečišćavanje [6].Ključna tehnologija tonera visoke čistoće je uklanjanje tragova nečistoća.U kombinaciji sa karakteristikama hemijskog pročišćavanja i prečišćavanja na visokim temperaturama, usvojen je jedinstven segmentirani kompozitni proces termohemijskog prečišćavanja visoke temperature kako bi se postiglo pročišćavanje materijala tonera visoke čistoće, a čistoća proizvoda može biti veća od 6N.
Performanse i karakteristike proizvoda:
1, čistoća proizvoda≥99,9999% (6N);
2, stabilnost ugljičnog praha visoke čistoće, visok stupanj grafitizacije, manje nečistoća;
3, granularnost i tip se mogu prilagoditi prema korisnicima.
Glavne namjene proizvoda:
■Sinteza SiC praha visoke čistoće i drugih čvrstofaznih sintetičkih karbidnih materijala
■Uzgajajte dijamante
■Novi materijali toplotne provodljivosti za elektronske proizvode
■Vrhunski materijal katode litijumske baterije
■Jedinjenja plemenitih metala su takođe sirovine
-
Cijev epitaksijalnog reaktora obložena silicijum-karbidom
-
LED Si, otporan na visoke temperature i koroziju...
-
Bačvasti reaktor za epitaksiju u tečnoj fazi
-
MOCVD posuda sa antioksidacijskim slojem visoke čistoće
-
Poluprovodnička GaN epitaksija na bazi silicijuma
-
Polu-ceras barel reaktor: Osnaživanje poluprovodnika...