Opis
Naša kompanija pruža usluge obrade SiC premaza CVD metodom na površini grafita, keramike i drugih materijala, tako da specijalni gasovi koji sadrže ugljenik i silicijum reaguju na visokoj temperaturi da bi dobili molekule SiC visoke čistoće, molekule taložene na površini obloženih materijala, formirajući SIC zaštitni sloj.
Glavne karakteristike
1. Otpornost na oksidaciju na visokim temperaturama: otpornost na oksidaciju je i dalje vrlo dobra kada je temperatura čak 1600 C.
2. Visoka čistoća: napravljena hemijskim taloženjem pare pod uslovima hlorisanja na visokoj temperaturi.
3. Otpornost na eroziju: visoka tvrdoća, kompaktna površina, fine čestice.
4. Otpornost na koroziju: kiseline, alkalije, soli i organski reagensi.
Glavne specifikacije CVD-SIC premaza
| SiC-CVD svojstva | ||
| Crystal Structure | FCC β faza | |
| Gustina | g/cm ³ | 3.21 |
| Tvrdoća | Vickers tvrdoća | 2500 |
| Velicina zrna | μm | 2~10 |
| Chemical Purity | % | 99,99995 |
| Heat Capacity | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| Temperatura sublimacije | ℃ | 2700 |
| Felexural Strength | MPa (RT 4 tačke) | 415 |
| Youngov modul | Gpa (4pt savijanje, 1300℃) | 430 |
| toplinska ekspanzija (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| Toplotna provodljivost | (W/mK) | 300 |
