Horizontalna ploča za brod od silicijum karbida

Horizontalna ploča za čamac od silicijum karbida Istaknuta slika

Kratki opis:

Semicera nudi čamce za napolitanke, držači prilagođeni nosači pločica za vertikalne/kolone i horizontalne konfiguracije.Napredna keramika pruža odličnu otpornost na toplinu i izdržljivost plazme, uz smanjenje čestica i zagađivača.Silicijum karbid (SiC) klase poluprovodnika takođe obezbeđuje čvrstoću na visokim temperaturama za nosače pločica velikog kapaciteta.

Pošaljite nam email

Detalji o proizvodu

Oznake proizvoda

Predstavljamo našu vrhunsku horizontalnu ploču za čamce od silicijum karbida, pomno dizajniranu za primjenu obrade pločica u industriji poluvodiča.Izrađena od najfinijeg silicijum karbida, naša horizontalna ploča za čamce ističe se svojim vrhunskim termičkim svojstvima, hemijskom otpornošću i mehaničkom čvrstoćom.Idealna za procese na visokim temperaturama, ova ploča za čamce je dizajnirana da pruži izuzetne performanse, osiguravajući preciznost i efikasnost u svakoj upotrebi.

Ključne karakteristike

Izuzetna izdržljivost:Napravljen od silicijum karbida visoke čistoće, naš brodska pločaje projektovan da izdrži ekstremne temperature do1600°C, nudeći neusporedivu izdržljivost i životni vijek.

Ravnomjerna raspodjela topline:Toplotna provodljivost silicijum karbida osigurava ravnomjernu distribuciju topline po ploči, što je kritično za održavanje konzistentnosti procesa i postizanje visokokvalitetne proizvodnje vafla.

Hemijska otpornost:Otporna na korozivne hemikalije i oštra okruženja, naša ploča za čamce održava integritet i performanse, čak i u najzahtjevnijim aplikacijama obrade poluvodiča.

Visoka mehanička čvrstoća:Robusna konstrukcija našegbrodska pločajamči odličnu mehaničku čvrstoću i otpornost na habanje, smanjujući rizik od oštećenja i potrebu za čestim zamjenama.

Prijave:

NašHorizontalna ploča za brod od silicijum karbidasavršen je za širok spektar visokotemperaturnih procesa u proizvodnji poluprovodnika, uključujući, ali ne ograničavajući se na difuziju, oksidaciju, ionsku implantaciju i CVD procese.Njegov dizajn i materijali osiguravaju da može podržati precizne zahtjeve obrade pločica, što ga čini bitnom komponentom za linije za proizvodnju poluvodiča.

O nama