CVD SiC premaz Epitaksijalno taloženje u sistemu reaktora za epitaksiju

CVD SiC premaz Epitaksijalno taloženje u sistemu epitaksijalnog reaktora Istaknuta slika

Kratak opis:

Semicera nudi sveobuhvatan asortiman suceptora i grafitnih komponenti dizajniranih za različite epitaksijske reaktore.

Kroz strateško partnerstvo sa vodećim proizvođačima originalne opreme u industriji, opsežnu ekspertizu u vezi sa materijalima i napredne proizvodne mogućnosti, Semicera isporučuje dizajn po meri kako bi zadovoljio specifične zahteve vaše aplikacije. Naša posvećenost izvrsnosti osigurava da dobijete optimalna rješenja za potrebe vašeg epitaksijskog reaktora.

Pošaljite nam email

Detalji o proizvodu

Oznake proizvoda

Naša kompanija pružaSiC premazprocesne usluge na površini grafita, keramike i drugih materijala CVD metodom, tako da specijalni plinovi koji sadrže ugljik i silicij mogu reagirati na visokoj temperaturi kako bi dobili Sic molekule visoke čistoće, koji se mogu nanijeti na površinu obloženih materijala i formiratiSiC zaštitni slojza bačvasti tip hy pnotic.

Glavne karakteristike:

1 .SiC presvučen grafit visoke čistoće

2. Vrhunska otpornost na toplinu i termička uniformnost

3. DobroSiC kristalno obloženza glatku površinu

4. Visoka otpornost na hemijsko čišćenje

CVD epitaksijalno taloženje u bačvastom reaktoru

Glavne specifikacijeCVD-SIC premaz

Svojstva SiC-CVD
Crystal Structure	FCC β faza
Gustina	g/cm ³	3.21
Tvrdoća	Vickers tvrdoća	2500
Veličina zrna	μm	2~10
Chemical Purity	%	99,99995
Heat Capacity	J·kg-1 ·K-1	640
Temperatura sublimacije	℃	2700
Felexural Strength	MPa (RT 4 tačke)	415
Youngov modul	Gpa (4pt savijanje, 1300℃)	430
toplinska ekspanzija (CTE)	10-6K-1	4.5
Toplotna provodljivost	(W/mK)	300