GaAs pločice|GaAs Epi pločice|Supstrati galij arsenida

GaAs pločice|GaAs Epi pločice|Istaknuta slika podloge galij arsenida

Kratki opis:

WeiTai Energy Technology Co., Ltd. je vodeći dobavljač specijaliziran za wafer i napredne poluvodičke potrošne materijale.Posvećeni smo pružanju visokokvalitetnih, pouzdanih i inovativnih proizvoda za proizvodnju poluvodiča, fotonaponsku industriju i druga srodna polja.

Naša linija proizvoda uključuje SiC/TaC obložene grafitne proizvode i keramičke proizvode, koji obuhvataju različite materijale kao što su silicijum karbid, silicijum nitrid, aluminijum oksid itd.

Trenutno smo jedini proizvođač koji obezbeđuje čistoću od 99,9999% SiC premaza i 99,9% rekristalizovanog silicijum karbida.Maksimalna dužina SiC premaza koju možemo napraviti 2640mm.

Pošaljite nam email

Detalji o proizvodu

Oznake proizvoda

GaAs supstrati se dijele na provodljive i poluizolacijske, koje se široko koriste u laserima (LD), poluvodičkim diodama koje emituju svjetlost (LED), bliskom infracrvenom laseru, laseru velike snage kvantnog bunara i visokoefikasnim solarnim panelima.HEMT i HBT čipovi za radarske, mikrovalne, milimetarske ili ultra-brzine kompjutere i optičke komunikacije;Radio frekvencijski uređaji za bežičnu komunikaciju, 4G, 5G, satelitska komunikacija, WLAN.

Nedavno su supstrati od galij-arsenida takođe postigli veliki napredak u mini-LED, mikro-LED i crvenim LED diodama, i naširoko se koriste u AR/VR nosivim uređajima.

Prečnik 晶片直径	50mm \|75mm \|100mm \|150mm
Metoda rasta 生长方式	LEC液封直拉法 VGF垂直梯度凝固法
Wafer Thickness 厚度	350 um ~ 625 um
Orijentacija 晶向	<100> / <111> / <110> ili drugi
Conductive Type 导电类型	P – tip / N – tip / poluizolacioni
Tip/Dopant 掺杂剂	Zn/Si/nedopirani
Koncentracija nosača 载流子浓度	1E17 ~ 5E19 cm-3
Otpornost na RT 室温电阻率(ohm•cm)	≥1E7 za SI
Mobilnost 迁移率(cm2/V•sec)	≥4000
EPD (Gustoća jame za graviranje) 腐蚀坑密度	100~1E5
TTV 总厚度变化	≤ 10 um
Luk / Warp 翘曲度	≤ 20 um
Završna obrada 表面	DSP/SSP
Laser Mark 激光码
Ocjena 等级	Epi polirani kvalitet / mehanički kvalitet